金融界 2024 年 12 月 16 日音讯，国家知识产权局信息数据显现，扬帆半导体（江苏）有限公司请求一项名为“一种碳化硅 Wafer 加工用陶瓷盘带片主动清洁洗刷机”的专利，公开号 CN 119114479 A，请求日期为 2024 年 10 月。

　　专利摘要显现，本发明公开了一种碳化硅 Wafer 加工用陶瓷盘带片主动清洁洗刷机，包含：机架；基座，其可滚动的安装在机架上；二流体设备，其设置于基座一侧；清洁毛刷，其设置于基座一侧；氮气喷嘴，其朝向基座；其间，陶瓷盘放置于基座上，陶瓷盘上设置有碳化硅 Wafer，基座朝向清洁毛刷一侧歪斜安置，二流体设备上设置有二流体喷头，二流体喷头朝向基座，清洁毛刷固定安装在榜首驱动电机的输出端，二流体设备固定安装在转轴上，转轴固定安装在旋转气缸输出端。本发明相较于现存技能，处理现有碳化硅 Wafer 工艺流程中抛光液清洗不及时导致的清洁不完全、资源糟蹋的问题。

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